Litografia elektronowa

Wszystkie mikroskopy produkowane przez firmę TESCAN są wyposażone w zaawansowany, cyfrowy generator wzorów z 16 bitowym przetwornikiem DAC (pole 65 536 x 65 536).

Mikroskopy Tescan wyposażone w emiter polowy - jako źródło elektronów - dodatkowo zawiera algorytm kontroli układu elektronooptycznego (In-Flight Beam Tracing), który umożliwia bezpośrednią kontrolę spotu i prądu wiązki. Daje to możliwość prowadzenia zaawansowanych eksperymentów oraz pozwala na automatyzację procesów litografii elektronowej. Aby wykorzystać potencjał tych własności firma TESCAN stworzyła dedykowany moduł oprogramowania o nazwie DrawBeam. Moduł ten jest rozszerzeniem głównej aplikacji mikroskopów elektronowych, przeznaczonym do litografii elektronowej.

Procesy związane z litografią, które można realizować przy pomocy oprogramowania

  • Electron exposition (EBL) - ekspozycja
  • Electron etching (EBE) - trawienie
  • Electron Deposition (EBD) - nanoszenie elektronowe
  • Ion etching (IBE) - trawienie jonowe (dostępne z mikroskopami FIB)
  • Ion deposition (IBD) - nanoszenie jonowe (dostępne z mikroskopami FIB)

Wersje oprogramowania

DrawBeam Basic

  • Podstawowa wersja programu przeznaczona do standardowych eksperymentów i typowych aplikacji.
  • Dla wszystkich wzorów o dowolnym kształcie prędkość skanowania wynosi 80 ns/piksel.
  • Możliwe jest definiowanie różnych wzorów i obiektów oraz edytowanie ich własności.
  • Wszystkie obiekty mogą zostać rozmieszczone w warstwach, z których każda może mieć indywidualnie określone ustawienia parametrów wiązki, czasu ekspozycji, rodzaju materiału itp.

DrawBeam Advanced

  • Wersja zaawansowana, która umożliwia pracę na obszarach wielokrotnych z możliwością ich składania.
  • Prędkość skanowania dla dowolnego kształtu wynosi 20 ns/piksel.
  • Możliwość nawigacji na stoliku
  • Korekcja efektu bliskości (Proximity Effect Correction)
  • Import plików GDSII i DXF